Оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм было разработано НИИМЭ и НИИТМ

Была завершена разработка и сборка первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Это сделали НИИМЭ и НИИТМ, входящие в ГК «Элемент», MOEX:ELMT. 

Благодаря установкам удастся выпускать интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 мм и 300 мм. На странице «Карьера в НИИМЭ: наука, исследования, разработки» в соцсети vk проинформировали о том, что российские организации вошли в пятерку компаний в мире, которые обладают компетенциями в разработке и производстве данного класса технологического оборудования. НИИМЭ - головной исполнитель проекта, он обеспечил строительство чистых производственных помещений (ЧПП), монтаж и подключение опытных образцов оборудования в ЧПП, разработку технологических процессов и испытание оборудования. Основным соисполнителем является НИИТМ, его специалисты разработали само оборудование, а еще участвовали в проведении испытаний.

Как отметил замминистра промышленности и торговли В. Шпак, создание первых российских кластерных систем для ПХО и ПХТ – важный практический результат. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники. Проект демонстрирует, что кооперация наших научных институтов и промышленности способна решать сложные технологические задачи. 

Гендиректор НИИМЭ А. Кравцов подчеркнул, что вхождение в мировой топ обладателей технологии кластерных систем для микроэлектроники — это одновременно и колоссальное достижение, и серьезная ответственность перед отечественными разработчиками. Создание российских кластерных систем для ПХО и ПХТ стало ключевым этапом на пути к технологической самостоятельности отечественной микроэлектроники.